마이크로/나노팹

Micro/Nano Fabrication Center

• 설치기관

  한국과학기술연구원

• 구축기간

  2002~2009년

• 구축장소

  서울시 성북구 화랑로 14길 5

시설소개

• Micro/Nano 분야 연구개발을 위한 전용 인프라 구축
• Micro/Nano 기술 개발을 위한 신속하고 안정된 공정서비스 제공
• 국내외 산학연 연구진과 공조하여 관련 공정기술 확보
• Micro/Nano 국가 기술 향상에 이바지 할 수 있는 사용자 중심의a Fb 센터 구축 및 서비스 제공
• 사용자 중심의 Fab 장비교육, 안전교육 등 전문화된 교육을 통한 인적자원 개발
• 국내 타 Fab 시설과의 상호 공조를 통해 Fab 운영 극대화

활용분야

• MEMS 기술을 이용한 압력센서, 온도센서, 가스센서, 적외선 센서, 자이로 센서 개발
• Metal Nano Cluster 제작 및 응용 Device 제작
• 다양한 미래 반도체 소자 개발
• 자동차, 전자기기, 선박 등 다양한 제어분야 신기술 개발
• 반도체 기술 개발 및 반도체를 이용한 태양열 전지 개발
• 메모리반도체, 시스템반도체 및 특화디바이스(파워디바이스, 이차전지 등)
• 휴대기기에 적합한 초고속, 대용량, 저전력의 특성을 갖는 차세대메모리 개발

핵심어

• 파운드리 서비스｜Fab｜MEMS｜Micro｜Nano

대표장비

• 웨이퍼 식각장치(Deep Trench RIE, M/PLEX)
• 자기유도결합 플라즈마 건식 식각장치(ICP-RIE, Oxford)
• 멀티챔버 타입 스퍼터링 시스템(Multi Chamber Type Sputtering System, SME-200)
• 금속증착장비(E-Beam Evaporator, EI-5k)
• 레이저 마이크로 머시닝 시스템(Laser Micromachining System, M-2000)